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電子顯微鏡技術

日期:2022-07-20 12:35
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摘要:

電子顯微鏡技術

 

目前,電子顯微鏡技術(electron microscopy)已成為研究機體微細結構的重要手段。常用的有透射電鏡(transmission electron microscope,TEM)和掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光,用電磁透鏡代替了光學透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。 

成像原理 
     
  1、透射電鏡技術 
     
    透射電鏡是以電子束透過樣品經過聚焦與放大后所產生的物像, 投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。透射電鏡的分辨率為0.10.2nm,放大倍數為幾萬~幾十萬倍。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須制備更薄的超薄切片(通常為50100nm)。其制備過程與石蠟切片相似,但要求極嚴格。要在機體死亡后的數分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內),常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特制的超薄切片機(ultramicrotome)切成超薄切片,再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。 
     
    電子束投射到樣品時,可隨組織構成成分的密度不同而發生相應的電子發射,如電子束投射到質量大的結構時,電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子照片上則呈黑色。稱電子密度高(electron dense)。反之,則稱為電子密度低(electron lucent)。 
     
   2、掃描電鏡術 
     
    掃描電鏡是用極細的電子束在樣品表面掃描,將產生的二次電子用特制的探測器收集,形成電信號運送到顯像管,在熒光屏上顯示物體。(細胞、組織)表面的立體構像,可攝制成照片。 
     
    掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定,經脫水和臨界點干燥后,再于樣品表面噴鍍薄層金膜,以增加二波電子數。掃描電鏡能觀察較大的組織表面結構,由于它的景深長,1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放樣品圖像富有立體感。 

 

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